Ng氏によると、CPTAは、リーク電力低減と歩留りの改善を目的とした米Blaze DFM社の「Blaze MO」と、デッキのチェックを目的としたMentor社の「Calibre Yield Analyzer」も推奨しているという。
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Wednesday, January 30, 2008
Gate leakage, down and out?
A high-k dielectric process for CMOS transistors promises to turn the International Semiconductor Roadmap into a freeway by eliminating the gate-leakage problem at advanced nodes down to 10 nanometers.
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